研究室の概要

 科学技術の発展と絶えざるイノベーションの創出が求められている中で、デバイスの高集積化・高密度化、あるいは新しい先端材料の探索が行われており、それと共にプロセス技術への要求も益々厳しくなっています。一方、技術立国として世界と競争でき、技術の空洞化現象を回避するために、キーテクノロジーとして、材料やデバイスなどの物作り技術の確立と様々な工学分野への応用を図ることが必要となっています。また、表面・界面のみならず材料そのものの性質を原子・分子レベル(ナノレベル)で制御されたイノベーティブ材料・デバイスの開発は、高度情報化社会における新産業創出に対して大きく貢献すると考えられています。これらの技術的・社会的要請に対処するために、ナノプロセス工学分野では光・電子のみならずイオンなどのナノビームが物質・材料に照射されたときに生じる状態変化を利用したプロセス技術を開発し、またナノテクノロジーを駆使した物作りの革新や物質の新機能創出を目指しています。

 光・電子理工学教育研究センターは、工学研究科の附属施設であり、これまで4半世紀以上続いた「イオン工学実験施設」を改組して平成19年4月1日に設置された新しいセンターであります。当研究室はその中の1部門である「ナノプロセス部門」に属した専任講座であり、京都大学・桂キャンパスに位置しています。(写真参照)これまでの「イオン工学実験施設」の研究の継続・展開を図ることをミッションとしており、また融合研究拠点の形成(グローバルCOE「光・電子理工学教育研究拠点形成」)と大学院一貫教育による人材育成の支援を行っています。


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附属光・電子理工学教育研究センター
ナノプロセス工学分野

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