2020年研究発表一覧


研究論文(学術誌に掲載されたもの)

Tomohiro Yamaguchi1, Subaru Takahashi1, Takanori Kiguchi2, Atsushi Sekiguchi1, Kentaro Kaneko, Shizuo Fujita, Hiroki Nagai1, Mitsunobu Sato1, Takeyoshi Onuma1, and Tohru Honda1
(1Kogakuin University, 2Tohoku University)
``Impact of hydrochloric acid on the epitaxial growth of In2O3 films on (0001)α-Al2O3 substrates by mist CVD"
Applied Physics Express, Vol.13, No.7, 075504 (4 pages), June 2020.


解説


図書

藤田静雄
``第2編・第3章・第3節 MOCVD法 3.II-VI族および酸化物半導体"
權田俊一 監修, 2020版 薄膜作製応用ハンドブック, pp.445-448 ((株)エヌ・ティー・エス, 2020).

藤田静雄
``第4編・第1章・第3節 パワーデバイス 5.酸化ガリウム"
權田俊一 監修, 2020版 薄膜作製応用ハンドブック, pp.1011-1013 ((株)エヌ・ティー・エス, 2020).

Shizuo Fujita
"Mist Chemical Vapor Deposition 1"
in Masataka Higashiwaki and Shizuo Fujita, Ed., Gallium Oxide, pp.231-241 (Springer International Publishing, 2020).


国際会議等発表

Takeyoshi Onuma1, Mizuki Ono1, Kanta Kudo1, Kyohei Ishii, Kentaro Kaneko, Shizuo Fujita, and Tohru Honda1
(1Kogakuin University)
``DUV cathodoluminescence in rocksalt-structured MgZnO films (invited)"
The Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers (SPIE) Photonics West 2020,San Francisco, USA (Feb. 4-6, 2020) #11281-52 [oral, Feb. 5].


その他

神野莉衣奈, 金子健太郎, 宇野和行1, 藤田静雄
(1和歌山大システム工)
`` 多様な安定相の熱的安定性: (AlxGa1-x)2O3を例に"
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会, 上智大学 (2020年3月12日-15日) 12a-A301-5.

工藤幹太1, 石井恭平, 小野瑞生1, 金子健太郎. 山口智広1, 嶋紘平2, 小島一信13、藤田静雄, 本田徹1, 秩父重英2, 尾沼猛儀1
(1工学院大, 2東北大多元研)
``岩塩構造MgZnO薄膜の時間分解フォトルミネッセンス分光"
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会, 上智大学 (2020年3月12日-15日) 12p-D419-6.

藤田 静雄
``[第10回化合物半導体エレクトロニクス業績賞(赤﨑勇賞)受賞記念講演] GaAs系、ZnSe系、および酸化物半導体の結晶成長における新技術開拓"
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会, 上智大学 (2020年3月12日-15日) 13p-D419-1.

神野莉衣奈. 増田泰久, 金子健太郎, 藤田静雄
``C面サファイア基板上 α-(AlxGa1-x)2O3薄膜の結晶相安定性"
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会, 上智大学 (2020年3月12日-15日) 13p-D419-2.