papers in 2014

2014年研究発表一覧


研究論文(学術誌に掲載されたもの)

Takayuki Uchida, Toshiyuki Kawaharamura*, Kenji Shibayama, Takahiro Hiramatsu**, Hiroyuki Orita**, and Shizuo Fujita
(*Kochi Univ. Tech., **Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems-Corpration)
``Mist chemical vapor deposition of aluminum oxide thin films for rear surface passivation of crystalline silicon solar cells"
Applied Physics Express, Vol.7, No.2, 021303(4 pages), Feb. 2014.

Shizuo Fujita, Kentaro Kaneko, Takumi Ikenoue, Toshiyuki Kawaharamura*, and Mamoru Furuta*
(*Kochi Inst. Tech.)
``Ultrasonic-assisted mist chemical vapor deposition of II-oxide and related oxide compounds"
Physica Status Solidi (c), Volume 11, Iss.7-8, pp.1225-1228, July 2014

Shizuo Fujita and Kentaro Kaneko
``Epitaxial growth of corundum-structured wide band gap III-oxide semiconductor thin films"
Journal of Crystal Growth, Volume 401, pp.588-592, Sept. 2014.

Norihiro Suzuki, Kentaro Kaneko, and Shizuo Fujita
``Growth of corundum-structured (InxGa1-x)2O3 alloy thin films on sapphire substrates with buffer layers"
Journal of Crystal Growth, Volume 401, pp.670-672, Sept. 2014


研究論文(プロシーディングス等に掲載されたもの)

Toshiyuki Kawaharamura*, Takayuki Uchida, Kenji Shibayama, Shizuo Fujita, Takahiro Hiramatsu**, and Hiroyuki Orita**
(*Kochi Univ. Tech., **Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems-Corpration)
``Aluminum Oxide Passivation Layer for Crystalline Silicon Solar Cells Deposited by Mist CVD in Open-Air Atmosphere"
Materials Research Society Symposium Proceedings Vol.1494, DOI: 10.1557/opl.2014.349


解説

藤田静雄
``青色光に魅せられた研究者たち - 信念が実を結んだ青色発光ダイオードとその波及効果"
化学 Vol.69, pp.12-15, Dec. 2014.


国際会議等発表

Shizuo Fujita, Kazuaki Akaiwa, Norihiro Suzuki, and Kentaro Kaneko
``Growth and properties of corundum-structured wide band gap α-(Al,Ga,In)2O3 semiconductor alloys"
41st Int. Symp. Compound Semiconductors, Montpellie, France (May 12-15, 2014) #Tu-C1-2 [oral, May 13].

Shizuo Fujita, Kazuaki Akaiwa, Norihiro Suzuki, and Kentaro Kaneko
``Epitaxial growth of corundum-structured α-(Al,Ga,In)2O3 semiconductor alloys on sapphire substrates (Invited)"
IUMRS - Int. Conf. on Electronic Materials 2014, Tauipei, Taiwan (June 10-14, 2014) #F1-IT-0581 [oral, June 13].

Kentaro Kaneko and Shizuo Fujita
``Prospective functional materials based on metastable-phased oxides (Invited)"
2014 Collaborative Conference on Materials Research, Inchon, Korea (June 23-27, 2014) [oral, June 25].

Shizuo Fujita, Norihiro Suzuki, Kazuaki Akaiwa, and Kentaro Kaneko
``Growth and Properties of Corundum-Structured α-(Al,Ga,In)2O3 semiconductor alloys on sapphire substrates"
46th Electronic Materials Conference, Santa Barbara, USA (June 25-27, 2014) #EE5 [oral, June 27].

Shizuo Fujita
``Mist deposition technology as a green route for thin film growth (invited)"
14th Int. Workshop on Active-matrix Flatpanel Displays and Devices, Kyoto, Japan (July 2-4, 2014) #S2-2 [oral, July 3].

Kentaro Kaneko, Shigenori Ueda*, and Shizuo Fujita
(*NIMS)
``Room temperature ferromagnetism in alpha-(Ga,Fe)2O3 semiconductor"
32nd Int. Conf. on the Physics of Semiconductors, Austin, USA (Aug. 10-15, 2014) Session Wide band Gap III [oral, Aug. 14].

Masaya Oda*, A. Takatsuka*, Toshimi Hitora*, J. Kikawa**, Kentaro Kaneko, and Shizuo Fujita
(*FLOSFIA, INC., **Ritsumeikan Univ.)
``α-Ga2O3 Schottky barrier diodes fabricated by mist epitaxy technique"
46th Int. Conf. on Solid State Devices and Materials, tsukuba, Japan (Sept. 8-11, 2014) #N-1-5 [oral, Sept. 9].


その他

藤田静雄
``ワイドギャップ酸化物半導体の新展開(招待講演)" 文科省平成23年度私立大学戦略的研究基盤形成支援事業 「セキュアライフを支援するデバイス・システム基盤研究拠点の形成」第3回報告会, 大阪工業大学, (2014年3月14日). 

赤岩和明,鈴木規央,金子健太郎,藤田静雄
``alpha-(InFe)2O3混晶薄膜の電気特性および磁気特性評価"
2014年第61回応用物理学会春季学術講演会, 青山学院大学相模原キャンパス, (2014年3月17日-20日) 17a-E7-11.

金子健太郎,上田茂典*,藤田静雄,藤田晃司,田中勝久
(*物材機構)
``Snドープ及びノンドープalpha-(Ga,Fe)2O3薄膜の電子状態と電子輸送特性評価"
2014年第61回応用物理学会春季学術講演会, 青山学院大学相模原キャンパス, (2014年3月17日-20日) 17a-E7-12.

内田貴之,川原村敏幸*,藤田静雄
(*高知工科大学)
``ミストCVD法によるSnOx薄膜の作製とその特性"
2014年第61回応用物理学会春季学術講演会, 青山学院大学相模原キャンパス, (2014年3月17日-20日) 17p-E10-5.

内田貴之,川原村敏幸*,柴山健次,藤田静雄,平松孝浩**,織田容征**
(*高知工科大学, **東芝三菱電機産業システム)
``オゾン支援を用いたミストCVD法による酸化アルミニウム(AlOx)パッシベーション膜の特性"
2014年第61回応用物理学会春季学術講演会, 青山学院大学相模原キャンパス, (2014年3月17日-20日) 18a-E12-5.

高木良輔,柴山健次,藤田静雄
``超音波噴霧法による硫化物薄膜の成長"
2014年第61回応用物理学会春季学術講演会, 青山学院大学相模原キャンパス, (2014年3月17日-20日) 18p-PG4-11.

藤田静雄
``酸化ガリウムをベースとしたワイドギャップ酸化物半導体系 (Invited)"
2014年第61回応用物理学会春季学術講演会, 青山学院大学相模原キャンパス, (2014年3月17日-20日) 19p-E10-9.

藤田静雄
``新しいデバイスに向けた酸化物半導体単結晶の進展"
(独)日本学術振興会 結晶成長の科学と技術 第161委員会 第87回研究会「新しい結晶・育成方法およびその応用」, メルパルク京都, (2014年5月9日).

小笠原正弘*, 開田圭祐**, 小谷正光**, 平尾孝, 藤田静雄
(*ミニョンベルクリニック, **イマック)
``超狭帯域LED光源の開発とその皮膚医学応用"
電子情報通信学会CPM-ED-SDM 研究会, 名古屋大学, (2014年5月28-29日) ED2014-35, CPM2014-18, SDM2014-33.

金子健太郎, 鈴木規央, 李三東, 北島雅士, 赤岩和明, 藤田静雄
``デバイス応用に向けたコランダム構造酸化物半導体の電気特性評価"
電子情報通信学会CPM-ED-SDM 研究会, 名古屋大学, (2014年5月28-29日).

小笠原正弘*, 開田圭祐**, 小谷正光**, 平尾孝, 藤田静雄
(*ミニョンベルクリニック, **イマック)
``超狭帯域LED光源の開発とその皮膚医学応用"
(独)日本学術振興会 ワイドギャップ半導体光・電子デバイス第162委員会 第90回研究会, 名城大学名駅サテライト, (2014年7月4日).

丹波大樹*,尾坂駿*,岡坂翔太*,織田真也**,田畑博史*,久保理*,藤田静雄,片山光浩*
(*阪大院工,**ROCA)
``サファイア上にミストCVD成長させたα-Ga2O3薄膜のCAICISSによる表面構造解析"
2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会, 北海道大学, (2014年9月17日-20日) 17p-A6-2.
藤田静雄
``ワイドギャップ半導体材料-花満開に向けて-(応用物理学会解説論文賞受賞記念講演)"
2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会, 北海道大学, (2014年9月17日-20日) 17p-C5-1.

高木良輔,柴山健次,金子健太郎,藤田静雄
``超音波噴霧法による太陽電池応用へ向けた硫化物薄膜の作製"
2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会, 北海道大学, (2014年9月17日-20日) 18p-A28-1.

内田貴之,川原村敏幸*,藤田静雄
(*高知工科大)
``大気開放下によるSnO薄膜の作製とその物性評価
2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会, 北海道大学, (2014年9月17日-20日) 19a-A12-8.

北島雅士,鈴木規央,金子健太郎,藤田静雄
``α-In2O3薄膜のn型導電性の起源に関する考察"
2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会, 北海道大学, (2014年9月17日-20日) 19p-A12-6.

伊藤義人,北島雅士,鈴木規央,金子健太郎,藤田静雄
``α-(InxGa1-x)2O3薄膜の電気特性評価
2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会, 北海道大学, (2014年9月17日-20日) 19p-A12-7.

鈴木健太,金子健太郎,伊藤義人,赤岩和明,藤田静雄
Snドープおよびノンドープα-(Al1-xGax)2O3薄膜のXPS測定"
2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会, 北海道大学, (2014年9月17日-20日) 19p-A12-13.

藤田静雄
``Ga2O3のエピタキシャル成長技術の現状"
(独)日本学術振興会ワイドギャップ半導体光・電子デバイス第162委員会 第91回研究会, 京都大学東京オフィス (2014年9月26日).