papers in 2010

2010年研究発表一覧


研究論文(学術誌に掲載されたもの)

Yudai Kamada, Shizuo Fujita, Takahiro Hiramatsu*, Tokiyoshi Matsuda*, Hiroshi Nitta*, Mamoru Furuta*, and Takashi Hirao*
(*Kochi University ofTechnology)
``Photo leakage current of zinc oxide thin film transistors"
Japanese Journal of Applied Physics, Vol.49, No.3, 03CB03(5pages), Mar. 2010.

Hiroyuki Nishinaka, Yudai Kamada, Naoki Kameyama, and Shizuo Fujita
``Growth characteristics of single-crystalline ZnMgO layers by ultrasonic spray assisted mist CVD technique"
Physica Status Solidi (b), Vol.247, Iss.6, pp,1460-1463, June 2010.

西中浩之, 藤田静雄
``気相法による酸化亜鉛半導体薄膜のステップフローホモエピタキシャル成長"
材料, 第59巻, 第9号, 675-680頁, 2010年9月.

金子健太郎, 野村太一, 福井裕, 藤田静雄
``ミストCVD法によるコランダム型構造酸化物半導体薄膜の作製と評価"
材料, 第59巻, 第9号, 686-689頁, 2010年9月.

香取重尊, 池之上卓巳, 平林克彦*, 神原浩久*, 栗原隆*, 藤田静雄
(*NTT)
``有機ホウ素ポリマーの二光子吸収型多層光メモリへの応用"
材料, 第59巻, 第9号, 694-698頁, 2010年9月.

Kentaro Kaneko, Taichi Nomura, and Shizuo Fujita
``Corundum-structured α-phase Ga2O3-Cr2O3-Fe2O3 alloy system for novel functions"
Physica Status Solidi (c), Vol.7, Iss.10, pp.2467-2470, Oct. 2010.

Mutsumi Kimura*, Yudai Kamada, Shizuo Fujita, Takahiro Hiramatsu**, Tokiyoshi Matsuda**, Mamoru Furuta**, and Takashi Hirao**
(*Ryukoku University, **Kochi University ofTechnology)
``Mechanism analysis of photoleakage current in ZnO thin-film transistors using device simulation"
Applied Physics Letters, Vol.97, Iss.16, 163503(3pages), Oct. 2010.

Yudai Kamada, Shizuo Fujita, Takahiro Hiramatsu*, Tokiyoshi Matsuda*, Mamoru Furuta*, and Takashi Hirao*
(*Kochi University ofTechnology)
``Analysis of subthreshold photo-leakage current in ZnO thin-film transistors using indium-ion implantation"
Solid-State Electronics, Vol.54, Iss.11, pp.1392-1397, Nov. 2010.

Mamoru Furuta*, Yudai Kamada, Mutsumi Kimura**, Takahiro Hiramatsu*, Tokiyoshi Matsuda*, Hiroshi Furuta*, Chayang Li*, Shizuo Fujita, and Takashi Hirao*
(*Kochi University ofTechnology, **Ryukoku University)
``Analysis of hump characteristics in thin-film transistors with ZnO channels deposited by sputtering at various oxygen partial pressures"
IEEE Electron Devices Letters, Vol.31, No.11, pp.1257-1259, Nov. 2010.


研究論文(プロシーディングス等に掲載されたもの)

Shizuo Fujita, Kentaro Kaneko, Yutaka Fukui, Hiroyuki Nishinaka, Takumi Ikenoue, and Taichi Nomura
``Mist deposition technique as a green chemical route for synthesizing oxide and organic thin films"
Materials. Research Society Symposium Proceedings, Vol. 1220, BB04-06, 2010.


解説

藤田静雄, 大島孝仁, 金子健太郎
``酸化ガリウム半導体の表面制御と高品質単結晶薄膜の作製"
表面科学, 第31巻, 第12号, 643-650頁, 2010年12月.


国際会議等発表

Yudai Kamada, Shizuo Fujita, Takahiro Hiramatsu*, Tokiyoshi Matsuda*, Mamoru Furuta*, and Takashi Hirao*
(*Kochi University of Technology)
``Photo-leakage current in ZnO TFTs for transparent electronics"
SID International Symposium, Seminar & Exhibition, Seattle, USA (May 23-28, 2010) #69-1 [oral, May 28].

Takayoshi Oshima, Takeya Okuno, and Shizuo Fujita
``UV-B sensing with tin dioxide semiconductors"
37th Int. Symp. Compound Semiconductors, Takamatsu, Japan (May 31-June 4, 2010) #TuD1-2 [oral, June 1].

Kentaro Kaneko and Shizuo Fujita
``Observation and evaluation of α-Ga2O3/α-Al2O3 interfaces by high resolution transmission electron microscope"
37th Int. Symp. Compound Semiconductors, Takamatsu, Japan (May 31-June 4, 2010) #TuD1-6 [oral, June 1].

Takumi Ikenoue, Naoki Kameyama, and Shizuo Fujita
``Hard-mask patterned mist deposition of PEDOT:PSS thin films and demonstration of ultraviolet sensors with the PEDOT:PSS/ZnMgO Schottky contacts"
37th Int. Symp. Compound Semiconductors, Takamatsu, Japan (May 31-June 4, 2010) #TuE4-5 [oral, June 1].

Takeya Okuno, Takayoshi Oshima, Sam-Dong Lee, and Shizuo Fujita
``Characteristics of high quality SnO2 thin films grown by novel mist chemical vapor deposition method"
37th Int. Symp. Compound Semiconductors, Takamatsu, Japan (May 31-June 4, 2010) #TuP93 [poster, June 1].

Shizuo Fujita, Takumi Ikenoue, Naoki Kameyama, and Takayoshi Oshima
``Ultraviolet photodetectors with novel oxide thin films"
52nd Electronic Materials Conference, Notre Dame, USA (June 23-25) #DD1 [oral, June 25].

Kentaro Kaneko and Shizuo Fujita
``Characterization of corundum-structured α-V2O3 oxide semiconductor thin films fabricated by the mist CVD method"
European Materials Research Society 2010 Fall Meeting, Warsaw, Poland (Sept. 13-17, 2010) #B3.6 [oral, Sept. 14].

Kentaro Kaneko and Shizuo Fujita
``Characterization of corundum-structured Ga2O3 and Fe2O3 oxide semiconductor thin films"
European Materials Research Society 2010 Fall Meeting, Warsaw, Poland (Sept. 13-17, 2010) #B8.6 [oral, Sept. 16]

Takuto Igawa, Kentaro Kaneko, and Shizuo Fujita
``Vapor deposition of LiMn2O4 cathode thin films for all solid Li-ion battery"
European Materials Research Society 2010 Fall Meeting, Warsaw, Poland (Sept. 13-17, 2010) Symposium H [oral, Sept. 16]

Yudai Kamada, Shizuo Fujita, Takahiro Hiramatsu*, Tokiyoshi Matsuda*, Mamoru Furuta*, and Takashi Hirao*
(*Kochi Univ. of Tech., Japan)
``Role of film properties in sub-threshold characteristics of zinc oxide thin-film transistors (ZnO TFTs)"
10th Int.Meet. Information Display: Int. Display Manufacturing Conf. and Asia Display 2010, Seoul, Korea (Oct. 11-15, 2010) #31-2 [oral, Oct. 13]

Takumi Ikenoue, Naoki kameyama, and Shizuo Fujita
``Solution- and Non-Vacuum-Based Vapor Deposition Methods for Oxides and Organic Materials"
10th Int.Meet. Information Display: Int. Display Manufacturing Conf. and Asia Display 2010, Seoul, Korea (Oct. 11-15, 2010) #P2-100 [poster, Oct. 14]

Kentaro Kaneko and Shizuo Fujita
``Solution-based vapor-phase epitaxy for functional oxide semiconductors"
2010 Materials Research Society Fall Meeting, Boston, USA (Nov.29-Dec.3, 2010) #MM7.5 [oral, Dec. 1]

Shigetaka Katori, Nobuo Satoh, Kei Kobayashi, Shizuo Fujita, Kazumi Matsushige, and Hirofumi Yamada
``Surface potential measurement of CuPc/C60 thin film fabricated on ITO electrode by using FM-KFM technique"
2010 Materials Research Society Fall Meeting, Boston, USA (Nov.29-Dec.3, 2010) #E8.39 [poster, Dec. 1]

Kentaro Kaneko and Shizuo Fujita
``Fabrication of highly crystalline In2O3 oxide semiconductor thin films on YSZ (111) substrates"
2010 Materials Research Society Fall Meeting, Boston, USA (Nov.29-Dec.3, 2010) #MM9.5 [poster, Dec. 1]

Takumi Ikenoue and Shizuo Fujita
``Mist deposition technique: A novel vapor-deposition method based on solution processes for conductive polymers and organic materials toward device application"
Int. Chemical Congress of Pacific Basin Cosieties (PACIFICHEM) 2010, Honolulu, Hawaii, USA (Dec. 15-20, 2010) Symposium #233 [oral, Dec. 15]


その他

福井裕,藤田静雄
``ミストCVD法によるp型Cu2O薄膜の作製と物性評価"
2010年春季第57回応用物理学関係連合講演会, 東海大学, (2010年3月17日-20日) 17a-TQ-2

池之上卓己,藤田静雄
``超音波噴霧ミストデポジション法によるPEDOT/PSS薄膜の作製と評価"
2010年春季第57回応用物理学関係連合講演会, 東海大学, (2010年3月17日-20日) 17p-ZE-1.

鎌田雄大,藤田静雄,川原村敏幸1,平松孝浩1,松田時宜1,古田守1,平尾孝1
(1高知工科大学)
``スパッタリング法で成膜したZnO薄膜の光学特性とTFT応用"
2010年春季第57回応用物理学関係連合講演会, 東海大学, (2010年3月17日-20日) 19a-TM-3.

奥野剛也,大島孝仁,藤田静雄
``ミストCVD法によるSnO2薄膜の作製"
2010年春季第57回応用物理学関係連合講演会, 東海大学, (2010年3月17日-20日) 19p-TM-3.

金子健太郎,藤田静雄
``c面サファイア基板上α-Ga2O3薄膜の断面TEM観察"
2010年春季第57回応用物理学関係連合講演会, 東海大学, (2010年3月17日-20日) 19p-TM-4.

竹田聡1,新井直樹1,小林恭1,樋野治道1,大島孝仁,藤田静雄
(1日本軽金属)
``Ga2O33紫外線センサの作製と連続監視システムへの応用"
2010年春季第57回応用物理学関係連合講演会, 東海大学, (2010年3月17日-20日) 19p-TM-7.

Shizuo Fujita
``Functional Oxide Semiconductors"
JSPS Sweden-Japan Colloquium ``Nanofabrication and Functional Device", Linkoping University, Sweden (June 15-16).

Kentaro Kaneko, Taichi Nomura, and Shizuo Fujita
``The new alloy system (α-Ga2O3)-(α-Fe2O3)-(α-Cr2O3) (新しい混晶系(α-Ga2O3)-(α-Fe2O3)-(α-Cr2O3))
第29回電子材料シンポジウム(29th Electronic Materials Symposium), ラフォーレ修善寺, (2010年7月14-16日) We2-5.

鎌田雄大,藤田静雄,木村睦*,平松孝浩**,古田守**,平尾孝**
(*龍谷大学, **高知工科大学)
``ZnO薄膜トランジスタのHump特性の解析"
2010年秋季第71回応用物理学会学術講演会、長崎大学、 (2010年9月14-17日) 15a-ZJ-4.

池之上卓己,李在衡,佐川尚,増田喜男*,吉川暹,藤田静雄
(*陶喜)
``非真空気相プロセスによる有機太陽電池作製に向けた検討"
2010年秋季第71回応用物理学会学術講演会、長崎大学、 (2010年9月14-17日) 15p-R-11.

朴今春,香取重尊,藤田静雄
``スピンコーティング法によるトリス(8-キノリノラト)アルミニウム薄膜の作製と評価"
2010年秋季第71回応用物理学会学術講演会、長崎大学、 (2010年9月14-17日) 17a-K-1.

鎌田雄大,藤田静雄,平松孝浩*,木村睦**,松田時宜*,古田守*,平尾孝*
(*高知工科大学, **龍谷大学)
``2 次元デバイスシミュレーションによる酸化亜鉛薄膜トランジスタの光感度メカニズムの解析"
日本材料学会半導体エレクトロニクス部門委員会平成21年度第2回研究会、大阪府立大学、 (2010年11月20日).

井川拓人, 金子健太郎, 藤田静雄
``ミストCVD法によるリチウムイオン二次電池用薄膜の作製"
応用物理学会結晶工学分科会2010年年末講演会、学習院大学、 (2010年12月17日) #30.